Nowy światło czuły materiał
Dodane przez Ellsar dnia 18.11.2009 17:37:18

Firma Toshiba ogłosiła, że opracowała fotorezystu - czyli specjalnego materiału, który jest czuły na światło o ściśle określonej długości fali, współpracującego z litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV). Jest jednocześnie pierwszym nadającym się do wykorzystania w 20-nanometrowym procesie produkcyjnym.
Szczegóły wynalazku zostaną omówione podczas 22nd International Microprocesses and Nanotechnology Conference, która odbędzie się 19 listopada w Sapporo.
Dzisiaj stosowane fotorezysty, które korzystają z polimerów, nie są odpowiednie do wykorzystania w technologiach poniżej 20 nanometrów, a przyczyna jest w ich złej rozdzielczości.
Treśœć rozszerzona

Firma Toshiba ogłosiła, że opracowała fotorezystu - czyli specjalnego materiału, który jest czuły na światło o ściśle określonej długości fali, współpracującego z litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV). Jest jednocześnie pierwszym nadającym się do wykorzystania w 20-nanometrowym procesie produkcyjnym.
Szczegóły wynalazku zostaną omówione podczas 22nd International Microprocesses and Nanotechnology Conference, która odbędzie się 19 listopada w Sapporo.
Dzisiaj stosowane fotorezysty, które korzystają z polimerów, nie są odpowiednie do wykorzystania w technologiach poniżej 20 nanometrów, a przyczyna jest w ich złej rozdzielczości.

Prace nad urządzeniami litograficznymi zdolnymi do produkcji układów scalonych, których wielkość bramki nie przekracza 20 nanometrów są bardzo zaawansowane. Jednak dotychczas brakowało odpowiedniego fotorezystu.
Toshiba opracowała przydatny fotorezyst wykorzystując do jego produkcji odmianę materiału zwanego truxene. Dzięki niemu już wyprodukowano testowy wzorzec o liniach grubości 22 nanometrów. Badania wykazały też, że jest on też o 40% bardziej trwały od powszechnie używanego polihydroksystyrenu.
Badania Toshiby dają nadzieję, że założenia zawarte w International Technology Roadmap for Semiconductors, zostaną zrealizowane. Zgodnie z nimi w roku 2013 rozpocznie się masowa produkcja układów w technologii 20 nanometrów.
Mowa tu o układach masowego użytku - Intel zapowiedział, że prawdopodobnie w przyszłym roku ruszy z produkcją pierwszych procesorów opartych o technologię 22nn.

źródło: EETimes